加热区域深200*宽150*高150mm
工作温度1300℃
升温速率≤20℃/Min
设计温度1400℃
加热元件硅碳棒
功率2KW
箱式气氛炉结构复杂由炉体、加热室、真空室、温控系统、密封系统、真空系统等组成。
箱式气氛炉与普通电炉相比具有以下优点:
外观采用耐高温、耐腐蚀油漆处理。
炉门采用加厚、加固处理,防止变形。
可观性强,为实验室产品。
炉门开启采用铰链联接,炉门密封采用耐高温硅胶圈真空密封。
控温仪表采用智能数显仪表,双LED显示,控温精度高,操作方便。
电炉带有PID自整定功能,具有温报警断电加热功能,可无人值守。
电线全部接好,货到只需插电就可使用,操作简单。
控温方式采用可控硅控温,精度高无声响,满足实验室要求。
AFD-A1700-12气氛还原炉以硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用1700型氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统,气体经过流量计后由后膛进出,有多处洗炉膛进气口、出气口处有燃烧嘴,可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
1700℃真空气氛箱式炉,主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境,可应用于金属材料、石墨材料、锂电材料、晶体材料等新材料领域。
二、 产品描述
AFD系列产品主要针对实验室的日常应用开发,优质的炉膛材料和稳定的温度控制系统,可保证实验数据的可靠性;产品采用新型陶瓷纤维材料作为炉膛材料,选用质优的硅钼棒发热元件作为发热体,温度控制器采用微电脑PID控制模块,可实现精确的控温和恒温要求。
温度曲线设定:采用智能温度控制仪,备标准PID调节方式,无调及无欠调的优良控制特性,具备多段程序控制功能,可实现任意斜率的升、降温控制,具有跳转(循环)、运行、暂停及停止等可编程/可操作命令,并允许在程序的控制运行中随时修改程序;采用具备曲线拟合功能的人工智能调节算法,能获得光滑平顺的曲线控制效果;
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