杭州高温气氛炉 真空气氛炉订做 密封性好

箱式气氛炉整个炉体采用双层内胆式结构，中间有气隙隔离，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理。该炉配有通讯接口和软件，可以直接通过电脑控制炉子的各个参数，并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况，炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出，并能把每个时刻的温度数据保存起来，随时可以调出。应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结。箱式气氛炉控制系统本电炉为冰箱式一体结构，控制系统安放在炉体下方，美观大方。仪表采用上海国龙温控表、温度控制采用PID自动控制、自动升温调节。
产品特点：
1、真空气氛炉以硅碳棒为加热元件，炉体采用双层炉壳结构，双层风冷系统，可以快速升降温，炉壳表面温度低；
2、炉门、炉**采用高温硅橡胶密封，炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、口、抽真空口。
3、炉膛材料采用的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成，节能50%，加热元件采用硅碳棒。
4、电炉温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能，该控制系统温度显示精度为 1℃，温场稳定度±5℃，升温速率1~20℃可任意置。
5、可以通氢气、氩气、氮气等其他气体，并能预抽真空，真氛压力可以达到0.1Mpa,炉体采用厚钢板加工而成，安全可靠，符合国家标准。
适用范围：
真空气氛炉满足于不同工艺实验而制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备

炉膛尺寸：深100*宽100*高100mm
工作温度：1600℃
高温度：1700℃
升温速率：≤30℃/Min
控温精度：±1℃
加热元件：硅钼棒
热电偶：B型
工作电压：220V 50hz
功率：2Kw
外形尺寸：深430*宽473*高692mm
型号：AFD-6-12TP
技术参数：
加热区域 深300*宽200*高200mm
工作温度 1100℃
高温度 1200℃
大真空度 -0.1Mpa
密封方式 304不锈钢 KF法兰
可通气氛 所有惰性气体，氮气、氩气、二氧化碳、水蒸气
升温速率 ≤30℃/Min
控温精度 ±1℃
加热元件 掺钼铁铬铝电阻丝
热电偶 K型
工作电压 220V 50HZ
功率 6KW
真空泵 VP125

高温真空气氛炉 箱式气氛炉
1、采用特种设计技术，具有操作安全、方便、真空度好，，密封性好，真空保持时间长。
2、该气氛炉可充入高压气体，气氛压力极限值0.1MPa，采用特的密封技术，可长时间保压，安全性能好，操作方便。
3、采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制。
4、炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速对温控系统降温。
5、气氛炉采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫、并通有水冷系统。
6、气体经过流量计后由后膛进出，有多处洗炉膛进气口、口处有燃烧嘴。
7、可以通氩气、氢气、氧气、氮气、一氧化碳、氨分解气等气体。
8、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院机构、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。

注意事项
1、  为两不影响电炉的使用寿命，我们建议升温速率和降温速率为10-20℃/min，（升温过快发热元件寿命会缩短）
2、  此电炉不可通入易燃易爆气体
3、  此电炉使用一段时间后，炉膛会出现微小的裂纹，这属于正常现象，不会影响使用，同时可以用氧化铝涂层进行修补
4、  不建议通入腐蚀性气体，如果要通入强腐蚀性气体如S、Na等，请提前告知，我们将对炉膛进行处理
5、  不能将高温溶液漏到炉底上，避免方案可采用垫板或者氧化铝粉隔离
6、  仪器应放置在空气流通，不潮湿的地方。
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