AFD系列箱式气氛炉适用于高校，科研院所，工矿企业做气氛保护烧结，气氛还原的理想设备。具有温场均匀，升降温速度快，节能，可通入多种气体等特点
技术参数：
加热区域：深200*宽150*高150mm
工作温度：1300℃
高温度：1400℃
大真空度：-0.1Mpa
密封方式：硅胶垫
可通气氛：所有惰性气体，氮气、氩气、二氧化碳、水蒸气
升温速率：≤20℃/Min
控温精度：±1℃
加热元件：硅碳棒
热电偶：S型
工作电压：220V 50HZ
功率：2KW
真空泵：VP180
1700℃真空气氛箱式炉，主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可应用于金属材料、石墨材料、锂电材料、晶体材料等新材料领域。
二、 产品描述
AFD系列产品主要针对实验室的日常应用开发，优质的炉膛材料和稳定的温度控制系统，可保证实验数据的可靠性；产品采用新型陶瓷纤维材料作为炉膛材料，选用质优的硅钼棒发热元件作为发热体，温度控制器采用微电脑PID控制模块，可实现精确的控温和恒温要求。
温度曲线设定:采用智能温度控制仪，备标准PID调节方式，无调及无欠调的优良控制特性，具备多段程序控制功能，可实现任意斜率的升、降温控制，具有跳转（循环）、运行、暂停及停止等可编程/可操作命令，并允许在程序的控制运行中随时修改程序；采用具备曲线拟合功能的人工智能调节算法，能获得光滑平顺的曲线控制效果；
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