真空管式电炉报价 管式马弗炉

AFD系列立式管式气氛炉的*特设计能够实现在真空或气氛保护条件下对样品快速升降温，四面加热，温场更均匀，立式结构使得气体排放更加顺畅，炉体垂直安装在可移动支架上有利于炉管取放温度的均匀性，可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，特别适合薄膜生长、电测试、氧化物晶体生长、快速退火等实验需要！

产品名称：真空气氛管式电阻炉
产品型号：AFD-80-14
主要指标：炉管尺寸：φ80mm×1000mm
额定高温度：1400℃
长期工作温度：1350℃
加热区尺寸：300mm
温度稳定性：±1℃
升温速度：1-20℃/min，可根据工艺自由调节
电源功率：AC220V，5KW， 50HZ

真空管式炉 1100℃
AFD系列真空管式炉详细介绍
AFD系列真空管式炉，具有合理的性能设计，集多项功能于一身，安全性，可靠性，实用性均达理想效果。
1、高温度1100℃，加热区为300mm。
2、炉体采用双层炉壳结构，双层炉壳之间装有风机，可以快速升降温，炉壳表面温度低。
3、炉管采用高纯石英管、两端采用SUS304高真空法兰密封。
4、炉膛材料采用优质的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成，节能50%，加热炉膛由上下两部分组成，其中上部分炉膛可整体向后翻转110℃，方便取放实验物料、更换炉管。加热元件采用瑞典康泰尔电阻丝。
5、电炉温度控制系统采用人工智能调节技术，仪表控制精度为±1℃，具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序，具有高温报警功能，具有热电偶损坏断电功能，具有内置参数密码控制功能。
6、升温速度大≤30℃/min（建议升温速度≤10℃/min），可编写30段自动升温程序，可控硅控制，配备数显LED电压表、电流表,选用K型热电偶。
7、可选配RS-485通讯接口，数据管理软件，具有无纸记录历史数据和升温曲线，校正温度偏离误差的功能，可以管理多台设备和远程故障诊断分析。
8、多种安全防护设计，安全性能好，使用寿命长。

AFD1200-50 1200℃迷你型真空气氛管式炉 采用双层壳体结构，炉膛材料采用高纯氧化铝，壳体两边安装有铝制散热器使得法兰温度小于80℃，内炉膛表面涂有1750℃进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度。
适用范围：
主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。

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