信阳气氛炉厂家 箱式气氛炉订做
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产品描述

炉膛容积:200*150*150mm 温度稳定性:±1℃ 温度:1400℃ 升温速度:可以设定,一般60分钟内即可升到1400℃ 炉膛材料:采用多晶复合纤维材料, 整机真空度:1.33Pa 电源电压:220V\380V 功率:功率:
AFDZ系列气氛炉广泛应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验,还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型,额定温度分别为1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃,根据不同的气氛,不同的温度,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而制造。
真空系统采用特种设计技术,具有操作安全、方便、真空度好,限真空度可达20kPa,密封性好,真空保持时间长。该气氛炉可充入高压气体,气氛压力限值0.1MPa,采用特的密封技术,可长时间保压,安全性能好,操作方便。
气氛炉日常中应该如何进行保养操作:
1、定期检查各接线头接触是否良好。
2、根据工艺设定温度,通电加温、保温。
3、通过调查流量和控制出水口温度在40℃cgh。
4、车间须配备1/2管以水源后力达0.2MPa。
5、接通充气口充入CO2及其它保护气体,当气氛炉压力表指示在0.02~0.04MPa时,停止充气。
6、保持炉膛清洁,对炉内的金属氧化物,炉渣和杂质等应及时清除。装卸工件时应谨慎,以防碰坏硅钼棒。
7、当炉温升高,应随时注意,压力长,间断打开放气阀门,使炉胆内的压力在0.1MPa以下,这时胆的油烟等杂质可随之排出。
8、硅钼棒碱、碱金属、硅酸及硼化合物在高温下对它能起腐蚀作用,水蒸气对它有强烈的氧化影响,氢及含有大量氢的气体在高温时会分解硅钼棒,使用时必须严加注意。
9、气氛炉实行光亮退火,在升温时打开放气阀,随后充入保护气体,流量由小变大,当气氛炉炉内压力为正压时,即关闭全部阀门,此工艺应经工艺试验,
10、使用时不得过额定功率,能正确的安装与保养吗气氛炉炉温不得过高使用温度。禁止将潮湿工件装入炉膛内,含有过高水份的被加热工件应预先烘干。
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真空气氛炉产品特点
1.广泛用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处理、质量检测等。
2,炉体:采用碳钢经过精密的机械加工设备制作而成,双层设计中间带有风道,使表面温度接近室温。
3,外观:采用高温烤漆工艺,双色搭配,使外观美观大方,(也可根据客户颜色要求喷涂)
4,温控:采用国内编程温控仪及触发模块和电器组成智能电控系统,确保控制精度高,使用寿命长,易操作等特点。
5,变压器:采用全铜线圈缠绕全隔离变压器,发热量小,噪音小,使用寿命长等特点(只限于硅钼棒加热元件)
6,加热元件:采用高质量加热元件,发热均匀,表面光滑,使用寿命长等特点
7,热电偶:采用国标热电偶,度高,使用寿命长。
8,耐火材料:采用轻质陶瓷纤维材料,经过互拼的结构,组成陶瓷纤维炉膛,传热能量低,保温效果好,搭建方式,使炉膛使用寿命长。
9,保温材料:采用高铝,普铝,硅酸铝填充棉,对炉膛进行保温,使炉膛温度流失少,进一步的达到节能效果。
10, 密封炉衬采用5mm钢板20mm法兰,圆形设计,更好的承受压力。经过精密的焊接、机械加工密封槽、等工艺制作而成,可以做到密封作用及防爆作用,可以抽真空,通惰性气体、氮气、还原气体等。
11, 水冷采用3mm钢板精密加工而成,快捷式接头链接水管,保护密封圈长期使用,1200℃以上温度配备水冷。
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箱式气氛炉的特点:
1、多种安全防护设计,安全性能好,使用寿命长。
2、炉体采用双层炉壳结构,隔热材料,外表面温度低,节能50%。
3、箱式气氛炉炉门、炉**采用高温硅橡胶密封,炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、口、抽真空口。
4、采用真空成型工艺技术生产的进口无机纤维作为炉膛的保温材料和的绝热设计。
5、加热元件为康泰尔电阻丝,电阻丝缠绕在陶瓷棒上,分别设置在炉膛内的底部、左右三个面上,电阻丝可以更换,炉内的温场稳定度±5℃。
6、电炉温度控制系统采用人工智能调节技术,具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序,具有高温报警功能,具有热电偶损坏断电功能,具有内置参数密码控制功能。
7、可以通氢气、氩气、氮气等其他气体,并能预抽真空,真空度可以达到20kPa,气氛压力可以达到0.1Mpa,炉体采用10mm钢板加工而成,安全可靠,符合国家标准。
8、箱式气氛炉配备RS-485通讯接口,数据管理软件,具有无纸记录历史数据和升温曲线,校正温度偏离误差的功能,可以管理多台设备和远程故障诊断分析。
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气氛炉,炉膛尺寸除常规外,还有各种定做规格。更能贴近您的实验需要。额定温度有1100℃,1400℃,1600℃,1800℃,使用电阻丝,硅碳棒,硅钼棒为加热元件,型号齐全,安全可靠。同时也可为满足不同实验要求而定做。适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结,玻璃的精密退火与微晶化,晶体的精密退火,陶瓷釉料制备,粉末冶金,纳米材料的烧结,金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理。是科研单位,高等院校,工矿实验和生产设备。
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