实验室管式电炉定制 管式炉

AFD1200-50 1200℃迷你型真空气氛管式炉 采用双层壳体结构，炉膛材料采用高纯氧化铝，壳体两边安装有铝制散热器使得法兰温度小于80℃，内炉膛表面涂有1750℃进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度。
适用范围：
主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。

AFD系列管式炉以进口高温电阻丝、硅碳棒、硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和宇电32段程序控温系统，可控硅控制，炉膛采用进口氧化铝多晶体纤维材料，能快速升温，可通气氛和抽真空。温场均衡性高、表面温度低、升降温速率快、节能等优点。有单管、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、多温区等多种管式炉型。主要应用于大专院校，科研院所，工矿企业等实验和小批量生产之用。

采用宇电全智能16段或32段PID控制温控仪，温控仪是双行LED显示表盘，主要用于控温，反应灵敏，编程16或32段自动升温，保温，降温温度曲线，无人职守，PID控制，带有偏差，温断电报警等功能，使任试验或实验的一致性和再现性成为可能。具有自动恒温及时间控制功能，并附设有二级温自动保护功能，控制可靠，使用安全.

设备型号：AFD—50—17
高温度： 1700℃
工作温度： 1650℃
加热区长度：300mm
恒温区: 150 mm
温度均匀性： ±1℃
炉管实际尺寸： Φ50（外径）×1000mm （刚玉管）
炉膛材料： 莫来石纤维制品
控制温区个数： 1个，B分度热偶
控温精度： ≦±1℃，单回路智能32段（40段）程序仪表控制，PID参数自整定
加热元件： 优质硅碳棒加热
大加热功率： 6Kw
空炉保温功率：约3Kw
建议升温速率： 3℃～10℃/min
输入动力电源： 三相电源，50HZ ，380V±10%；6KW
炉体表面温升： ≤60℃。
尺寸: 550 x 380 x 520 mm
净重: 80 Kg