炉膛容积200*150*150mm
温度稳定性±1℃
温度1400℃
升温速度可以设定,一般60分钟内即可升到1400℃
炉膛材料采用多晶复合纤维材料,
整机真空度1.33Pa
电源电压220V\380V
箱式气氛炉整个炉体采用双层内胆式结构,中间有气隙隔离,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理。该炉配有通讯接口和软件,可以直接通过电脑控制炉子的各个参数,并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况,炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出,并能把每个时刻的温度数据保存起来,随时可以调出。应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结。箱式气氛炉控制系统本电炉为冰箱式一体结构,控制系统安放在炉体下方,美观大方。仪表采用上海国龙温控表、温度控制采用PID自动控制、自动升温调节。
气氛炉日常中应该如何进行保养操作:
1、定期检查各接线头接触是否良好。
2、根据工艺设定温度,通电加温、保温。
3、通过调查流量和控制出水口温度在40℃cgh。
4、车间须配备1/2管以水源后力达0.2MPa。
5、接通充气口充入CO2及其它保护气体,当气氛炉压力表指示在0.02~0.04MPa时,停止充气。
6、保持炉膛清洁,对炉内的金属氧化物,炉渣和杂质等应及时清除。装卸工件时应谨慎,以防碰坏硅钼棒。
7、当炉温升高,应随时注意,压力长,间断打开放气阀门,使炉胆内的压力在0.1MPa以下,这时胆的油烟等杂质可随之排出。
8、硅钼棒碱、碱金属、硅酸及硼化合物在高温下对它能起腐蚀作用,水蒸气对它有强烈的氧化影响,氢及含有大量氢的气体在高温时会分解硅钼棒,使用时必须严加注意。
9、气氛炉实行光亮退火,在升温时打开放气阀,随后充入保护气体,流量由小变大,当气氛炉炉内压力为正压时,即关闭全部阀门,此工艺应经工艺试验,
10、使用时不得**过额定功率,能正确的安装与保养吗气氛炉炉温不得**过高使用温度。禁止将潮湿工件装入炉膛内,含有过高水份的被加热工件应预先烘干。

炉膛尺寸:深100*宽100*高100mm
工作温度:1600℃
高温度:1700℃
升温速率:≤30℃/Min
控温精度:±1℃
加热元件:硅钼棒
热电偶:B型
工作电压:220V 50hz
功率:2Kw
外形尺寸:深430*宽473*高692mm
型号:AFD-6-12TP
技术参数:
加热区域 深300*宽200*高200mm
工作温度 1100℃
高温度 1200℃
大真空度 -0.1Mpa
密封方式 304不锈钢 KF法兰
可通气氛 所有惰性气体,氮气、氩气、二氧化碳、水蒸气
升温速率 ≤30℃/Min
控温精度 ±1℃
加热元件 掺钼铁铬铝电阻丝
热电偶 K型
工作电压 220V 50HZ
功率 6KW
真空泵 VP125

技术参数
一、烧结性能
1、炉膛容积:200*150*150mm
2、温度稳定性:±1℃
3、***高温度:1700℃
4、冲温值:≤1-3℃
5、升温速度:可以设定,一般60分钟内即可升到1400℃
6、炉膛材料:采用多晶复合纤维材料,具有真空成型,高温不掉粉的特征。外层采用陶瓷纤维棉,保温效果好,外壳不烫手。
7、整机真空度:1.33Pa
8、电源电压:380V
9、功率:0----36KW
10、加热元件:HRE
11、控制方式:程控、模糊PID调节、可控硅输出,PID参数自整定功能,手动/自动无干扰切换功能,**温报警功能,可编程序30段以上
13、重量轻,升温快,人性化设计
14、控制特点:控制系统模块化结构,设备关键部件**命设计,工艺简单可靠、稳定性好、精度高
15、配备真空机组(包括旋片式真空泵、罗茨真空泵、扩散泵、增压水泵、复合真空计等整套器件)

气氛箱式炉应用于适合各类大专院校实验室、工矿企业化验室,供化学分析、物理测定,以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、热处理用。
一、产品名称:箱式气氛保护实验炉。
二、用途:用于材料的气氛(氮气)烧结实验。
三、气氛箱式炉技术指标:
1.额定温度:1350℃。
2.常用温度: 1300℃。
3.炉膛尺寸:400×300×300 mm(L×W×H)。
4.有效工作尺寸:300×260×260 mm(L×W×H)。
5.加热方式:左右加热。(暗火加热)
6.温度仪表:可编程序控制(40段程序)。
7.控制方式:可控硅移相调压。
8.炉温稳定度:±1℃(以仪表显示为准)。
9.均匀性:在有效工作尺寸内±5℃。
10.炉门密封:水冷却套、硅橡胶密封。
11.气氛控制:气体流量计+减压阀
12.功率:12kw
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