额定加热功率kW5
工作室尺寸mm80×350
额定工作温度℃室温~1200
支持定制是
市场范围全国
管式炉是一种实验室设备,适用于金属，纳米，单晶硅,多晶硅,电池等的扩散焊接以及真空下的气体保护下，在真空或气氛状态下烧结各种新材料样品。采用国际技术，开发研制的节能环保电炉，管式炉有单管、双管、卧式、可开启式管式实验电炉。如要通各种气体也可以也可配备气体控制柜。
管式炉适用于工矿企业、大专院校，科研院所及实验室作真空或气氛状态下烧结各种新材料样品用。
1200度200管径管式炉(标准/双温区/三温区)
窗体底端
设备名称 200管径管式炉（开启式）
型 号 TF1200-200 TF1200-200II TF1200-200III
基本参数 电源电压 AC 220V,50/60Hz AC 220V,50/60Hz AC 380V,50/60Hz
外形尺寸（宽*深*高）
设备重量 115Kg 135Kg 160Kg
加热系统 加热功率 6Kw 8Kw 12Kw
加 热 区 440mm 600mm（300+300） 900mm（300+300+300）
恒 温 区 150mm（±3℃） 300mm（±3℃） 600mm（±3℃）
加热区数 单温区 双温区 三温区
极限温度 1200℃ 1200℃ 1200℃
使用温度 ＜1100℃（大气或惰性气氛下），≤900℃（高真空条件下）
升温速率 ≤30℃/min（上限）
300℃以内：≤3-8℃/min，300℃以上：≤8-12℃/min（建议）
降温速率 700℃以上≤10℃/min
测温传感器 N型
电 热 丝 HRE合金丝
表面负荷高、电阻率高、抗氧化性能好、经久耐用
炉 膛 中日合资 1500型氧化铝多晶纤维一体成型
收缩率小，导热系数低，保温效果好，耐用节能
1100℃大口径双温区管式炉技术参数
基本参数：
热偶：K型热偶
建议升温速率：≤10℃/min
温度：1000℃ （1100℃＜1h）
电源：AC220，50Hz 大8KW
加热区：
规格1：加热区长度：600mm 双温区：300mm+300mm
规格2：加热区长度：900mm 双温区：450mm+450mm
PECVD系统 等离子体化学气相沉积系统
窗体底端
PECVD系统
PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)等离子体增强化学气相沉积法。
本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。
本设备主要由管式加热炉体，真空系统，质子流量供气系统，射频等离子源，石英反应腔室等部件组成。
主要特点：
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。
是一种实验室设备,适用于金属，纳米，单晶硅,多晶硅,电池等的扩散焊接以及真空下的气体保护下，在真空或气氛状态下烧结各种新材料样品。采用国际技术，开发研制的节能环保电炉，管式炉有单管、双管、卧式、可开启式管式实验电炉。如要通各种气体也可以也可配备气体控制柜。
管式炉适用于工矿企业、大专院校，科研院所及实验室作真空或气氛状态下烧结各种新材料样品用。
管式电炉特点
1、控制精度：±1℃ 炉温均匀度：±1℃(根据加热室大小而定) 。
2、微电脑控制，操作方便，可编程，自动升温、自动保温、自动降温。
3、炉管采用刚玉99陶瓷。
4、不锈钢金属法兰密封（双胶圈）
5、炉体经精致喷塑耐腐蚀耐酸碱，炉体与炉膛隔离采用风冷炉壁温度接近室温 6、双回路保护（**温、**压、**流、段偶、断电等）
7、进口耐火材料，保温性能好，耐温高
8、真空表真空度 0至负0.1Mpa
9、电炉可通多种气体（氧气、氮气、氩气、氢气等）
10、温度类别：1000℃ 1400℃ 1600℃ 1700℃ 四种
11、本产品采用可靠的集成化电路，工作环境好，抗干扰
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