产品名称管式电炉
温 控宇电智能温控
控温精度1度
工作电压220V
真空密封不锈钢法兰
AFD系列立式管式气氛炉的特设计能够实现在真空或气氛保护条件下对样品快速升降温，四面加热，温场更均匀，立式结构使得气体排放更加顺畅，炉体垂直安装在可移动支架上有利于炉管取放温度的均匀性，可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，特别适合薄膜生长、电极测试、氧化物晶体生长、快速退火等实验需要！
AFD系列管式炉以进口高温电阻丝、硅碳棒、硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和宇电32段程序控温系统，可控硅控制，炉膛采用进口氧化铝多晶体纤维材料，能快速升温，可通气氛和抽真空。温场均衡性高、表面温度低、升降温速率快、节能等优点。有单管、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、多温区等多种管式炉型。主要应用于大专院校，科研院所，工矿企业等实验和小批量生产之用。
AFD1200-50 1200℃迷你型真空气氛管式炉 采用双层壳体结构，炉膛材料采用高纯氧化铝，壳体两边安装有铝制散热器使得法兰温度小于80℃，内炉膛表面涂有1750℃进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度。
适用范围：
主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
采用宇电全智能16段或32段PID控制温控仪，温控仪是双行LED显示表盘，主要用于控温，反应灵敏，编程16或32段自动升温，保温，降温温度曲线，无人职守，PID控制，带有偏差，**温断电报警等功能，使任试验或实验的一致性和再现性成为可能。具有自动恒温及时间控制功能，并附设有二级**温自动保护功能，控制可靠，使用安全.
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