福州真空管式炉 自整定功能
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产品描述

额定加热功率kW5 工作室尺寸mm80×350 额定工作温度℃室温~1200 支持定制 市场范围全国
产品用途:主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等场合。
是一种实验室设备,适用于金属,纳米,单晶硅,多晶硅,电池等的扩散焊接以及真空下的气体保护下,在真空或气氛状态下烧结各种新材料样品。采用国际技术,开发研制的节能环保电炉,管式炉有单管、双管、卧式、可开启式管式实验电炉。如要通各种气体也可以也可配备气体控制柜。
管式炉适用于工矿企业、大专院校,科研院所及实验室作真空或气氛状态下烧结各种新材料样品用。
福州真空管式炉
1100℃大口径双温区管式炉技术参数
基本参数:
热偶:K型热偶
建议升温速率:≤10℃/min
温度:1000℃ (1100℃<1h)
电源:AC220,50Hz   大8KW
加热区:
规格1:加热区长度:600mm    双温区:300mm+300mm
规格2:加热区长度:900mm    双温区:450mm+450mm
福州真空管式炉
控温仪表  厦门宇电 AI系列仪表,模糊PID控制和自整定调节功能
30段可编程控制,控温精度±1℃
真空系统  极限真空度  若选配我司高真空系统,可达1.33*10-4Pa(空炉冷态)
炉管及尺寸  石英管,200*1000mm  石英管,200*1200mm 石英管,200*1500mm
高温下化学稳定性强,耐腐蚀,热膨胀系数较小,能承受骤冷骤热
隔热管堵  2只,氧化铝材质
真空法兰  Φ200,一套;硅胶密封圈,内径180*5.7mm,四只
真空压力表  -0.1至0.15MPa
安 全防护  **温报警、断偶提示、过流保护、漏电保护
当需要开启炉体观察物料或加速降温时,为保证使用人员的安 全,会自动切断电源
升级服务  控温仪表升级为欧陆仪表,控温精度可提升至±0.1℃
随机资料  使用说明书1份、保修证书1份
免费服务  免费送货(不含卸货);免费技术支持
质 保 期  12个月,易损件除外(如炉管、密封圈等)
福州真空管式炉
PECVD系统 等离子体化学气相沉积系统
窗体底端
PECVD系统
PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)等离子体增强化学气相沉积法。
本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。
本设备主要由管式加热炉体,真空系统,质子流量供气系统,射频等离子源,石英反应腔室等部件组成。
主要特点:
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
5、广泛应用于:各种薄膜的生长,如:SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。
管式电炉产品描述
1.1本款管式炉以硅碳棒、硅钼棒或者电阻丝为加热元件,温度一般在1200度以上采用刚玉管。(注:1200度以下也可使用)
1.2采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,
1.3炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
1.4采用技术,有单管、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、双温区、三温区等多种管式炉型。
1.5具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可选配气氛、抽真空炉型等。
http://aamfl00.cn.b2b168.com

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